Компания 4Dimensions на протяжении более чем 30 лет занимается производством измерительной техники для инспекции в полупроводниковой промышленности. Одно из основных мест в линейке продуктов занимают установки для контроля поверхностного сопротивления пластин (подложек), а так же ртутные манипуляторы (зонды) для проведения измерений электрических характеристик полупроводниковых пластин без нанесения металлизации.

CVmap 92 A/B
CVmap 92A
CVmap 3093A

Измерение электрической емкости 0 — 20 нФ

Измерение силы тока 50 фА — 1 мА

Измерительный импульс: 50 мВ, 100 мВ, 150 мВ

Площадь контакта зонда 5*10-5 — 0,6 см2

Воспроизводимость измерений > 2%

Режимы измерения: точка, точка / кольцо, точка / 2 кольца

Головка зонда легко обновляется

Возможна подсветка образца (зависит от датчика)

Головка зонда из поликарбоната позволяет избежать царапин

 

Модель

Особенности

Требования к работе

CVmap 92 A/B
  • Диаметр пластин от 10 до 200 мм
  • ПО CVmap
  • Потребление электроэнергии: 100 / 115 / 230 В, 50/60 Гц, 300 Вт
  • Давление сжатого воздуха минимум 4 атм
  • Вакуум
  • Размеры (глубина, ширина, высота): 50.8 см, 55.9 см, 33 см

CV92 M
  • Диаметр пластин от 10 до 200 мм
  • Моторизированный столик, позволяющий проводить полуавтоматический контроль
  • Потребление электроэнергии: 100 / 115 / 230 В, 50/60 Гц, 200 Вт
  • Давление сжатого воздуха минимум 4 атм
  • Вакуум
  • Размеры (глубина, ширина, высота): 80 см, 61 см, 27 см

CVmap 3093 A/B
  • Основные характеристики аналогичны CVmap 92 A/B
  • Диаметр пластин от 10 до 300 мм
  • ПО CVmap
  • Потребление электроэнергии: 100 / 115 / 230 В, 50/60 Гц, 300 Вт
  • Давление сжатого воздуха минимум 4 атм
  • Вакуум
  • Размеры (глубина, ширина, высота): 83.9 см, 82.6 см, 40.7 см

Ртутный манипулятор (зонд) широко используются в микроэлектронной индустрии для экспрессного контроля профиля легирования полупроводниковых пластин и параметров МДП-структур. Профилирование с помощью метода ртутного зонда является уникальным способом измерения электрических характеристик материалов и изделий в ходе производства полупроводниковых устройств. Метод основан на анализе зависимости емкости МДП-структур от напряжения на затворе и является незаменимым в случае, когда нежелательным является нанесение металлизации на поверхность для проведения электрических измерений и позволяет значительно экономить время при изготовлении.

Анализ вольт-фарадных характеристик позволяет получить обширную информацию об основных параметрах МДП-структур: типе проводимости полупроводниковой подложки (n- или p-тип); концентрации легирующей примеси в подложке и законе ее распределения в приповерхностной области полупроводника; величине и знаке встроенного в диэлектрик МДП-структуры заряда; толщине подзатворного окисла; плотности поверхностных состояний на границе раздела полупроводник — диэлектрик.

Уникальная конструкция ртутного зонда позволяет обеспечивать высочайший уровень безопасности и воспроизводимость контактной площади в случае каждого конкретного измерения. Система представляет из себя замкнутый прибор, гарантирующий защиту от разлива ртути и загрязнения тестируемой пластины.

Замкнутый корпус и система обеспечения безопасности позволяет исключить возможность разлива ртути

Благодаря большому набору измерительных головок возможно проводить измерения с различными размерами и формой контактного пятна. Площадь контакта варьируется в пределах от 3*10-5 до 2 см2. Конфигурация может быть как одиночной точкой, так и точкой с концентрической окружностью, а так же линейный массив точек (по аналогии с четырехзондовым методом). Благодаря гибкости системы, она пригодна для проведения измерений на различных материалах, в том числе диэлектрики, полупроводники, структуры типа МДП.

 

Серия CV92 (в зависимости от комплектации) позволяет проводить ручной и полуавтоматический контроль пластин диаметром до 200 мм.

Серия 3093 предназначена для контроля пластин диаметром до 300 мм.